ニューヨークが半導体研究施設に100億ドル拠出、IBMやMicron、東京エレクトロンが参加

ニューヨーク州北部に、次世代チップ製造に取り組む100億ドル規模の半導体研究施設が建設される予定で、多くの半導体関連企業がこの計画の一翼を担う。

The Wall Street Journalによると、ニューヨーク州のアルバニー大学が研究施設を開設することになり、米国での半導体投資は急速に進んでいる。この研究施設は、同州の技術プロジェクトと投資を促進するNY Createsが監督する。

この新施設には、オランダのASML社の最新チップ製造装置が設置される予定だ。ASMLは、極端紫外線露光（EUV）装置の唯一の世界的サプライヤーであり、最先端半導体の製造になくてはならない存在である。

この施設は、ASMLの高開口数(High-NA)技術を搭載したマシンの最初の納入先のひとつとなる見込みで、2nmレベルから始まる将来の複数の生産ノードを可能にするために開発された。

アルバニーの拠点で次世代半導体プロジェクトに取り組む企業には、IBMやメモリーメーカーのMicron、さらにApplied Materialsや東京エレクトロンといったチップ製造装置のサプライヤーが含まれる。

IBMは日本の半導体産業の発展にも協力しており、政府が支援するチップ企業Rapidusが独自の最先端2nmチップを設計・製造するのを支援している。Rapidusは9月に北海道で2nmウェハ製造工場の建設を開始した。

Financial Times紙の報道によると、様々な半導体メーカーが2nmチップを最初に生産しようと競争している。TSMCはすでに3nmシリコンを量産しており、社内ではN2と呼ばれている次世代2nmノードについて以前議論したこともある。

FT紙は、SamsungはNVIDIAのような大手企業の関心を引くために、最新の2nmプロトタイプの廉価版を顧客に提供していると主張し、Intelは来年中に自社世代の2nmチップ（Intel 20A）を生産すると予想されているが、このタイムスケールを満たす能力には疑問があると言われている。

Micronは以前、今後20年間で1000億ドルを投じて、ニューヨーク州に米国史上最大の半導体工場を建設すると主張していた。

ニューヨーク・オールバニーの研究プロジェクトの資金は、ニューヨーク州自体から拠出されるものと思われるが、同地域は米国防総省によって、CHIPSおよび科学法の一環として資金提供を受けるマイクロエレクトロニクス・コモンズ地域イノベーション・ハブとしても認定されている。

本日(12月11日)、ニューヨーク州知事Kathy Hochul氏によるライブ・ウェブキャストが行われ、新しい半導体研究施設の詳細が確認される見込みである。

また、米国商務省は、「チップと科学法」の下で供与された最初の資金が、ニューハンプシャー州にあるマイクロエレクトロニクス・センターの近代化を支援するため、防衛企業BAE Systemsの事業部門であるBAE Electronic Systemsに供与されたことを明らかにした。

商務省によると、この連邦奨励金3500万ドルは、老朽化したツールの交換と、F-35戦闘機を含む重要な防衛プログラム用チップの生産増強に充てられる。

BAE社によると、マイクロエレクトロニクス・センターは、ガリウムヒ素（GaAs）および窒化ガリウム（GaN）高電子移動度トランジスタ（HEMT）ウエハーを生産する数少ない国内防衛中心ファウンドリーのひとつである。

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